بررسی اجمالی فوتورزیست
فوتورزیست که با نام فتورزیست نیز شناخته میشود، به مادهای با لایه نازک اطلاق میشود که حلالیت آن هنگام قرار گرفتن در معرض نور فرابنفش، پرتوهای الکترونی، پرتوهای یونی، اشعه ایکس یا سایر تابشها تغییر میکند.
این ماده از یک رزین، یک آغازگر نوری، یک حلال، یک مونومر و سایر افزودنیها تشکیل شده است (به جدول 1 مراجعه کنید). رزین و آغازگر نوری مهمترین اجزای مؤثر بر عملکرد مقاوم نوری هستند. این ماده به عنوان یک پوشش ضد خوردگی در طول فرآیند لیتوگرافی نوری استفاده میشود.
هنگام پردازش سطوح نیمههادی، استفاده از یک فتورزیست با گزینشپذیری مناسب میتواند تصویر مورد نظر را روی سطح ایجاد کند.
جدول ۱.
| مواد تشکیل دهنده مقاوم در برابر نور | عملکرد |
| حلال | این ماده باعث میشود که فتورزیست سیال و فرار باشد و تقریباً هیچ تاثیری بر خواص شیمیایی فتورزیست ندارد. |
| آغازگر نوری | این ماده که به عنوان عامل حساس به نور یا عامل پخت نوری نیز شناخته میشود، جزء حساس به نور در ماده مقاوم به نور است. این نوعی ترکیب است که میتواند پس از جذب انرژی نور ماوراء بنفش یا مرئی با طول موج مشخص، به رادیکالهای آزاد یا کاتیونها تجزیه شود و واکنشهای اتصال عرضی شیمیایی را در مونومرها آغاز کند. |
| رزین | این پلیمر بیاثر است و به عنوان چسب برای نگه داشتن مواد مختلف در یک فتورزیست در کنار هم عمل میکند و به فتورزیست خواص مکانیکی و شیمیایی میدهد. |
| مونومر | همچنین به عنوان رقیقکنندههای فعال شناخته میشوند، مولکولهای کوچکی حاوی گروههای عاملی قابل پلیمریزاسیون هستند و ترکیباتی با وزن مولکولی کم هستند که میتوانند در واکنشهای پلیمریزاسیون شرکت کنند تا رزینهای با وزن مولکولی بالا تشکیل دهند. |
| افزودنی | برای کنترل خواص شیمیایی خاص فتورزیستها استفاده میشود. |
فتورزیستها بر اساس تصویری که تشکیل میدهند به دو دسته اصلی تقسیم میشوند: مثبت و منفی. در طول فرآیند فتورزیست، پس از نوردهی و ظهور، بخشهای نوردهی نشده پوشش حل میشوند و بخشهای نوردهی نشده باقی میمانند. این پوشش یک فتورزیست مثبت در نظر گرفته میشود. اگر بخشهای نوردهی شده باقی بمانند در حالی که بخشهای نوردهی نشده حل میشوند، پوشش یک فتورزیست منفی در نظر گرفته میشود. بسته به منبع نور نوردهی و منبع تابش، فتورزیستها به عنوان فتورزیستهای UV (شامل فتورزیستهای UV مثبت و منفی)، فتورزیستهای UV عمیق (DUV)، فتورزیستهای اشعه ایکس، فتورزیستهای پرتو الکترونی و فتورزیستهای پرتو یونی طبقهبندی میشوند.
فوتورزیست عمدتاً در پردازش الگوهای ریزدانه در پنلهای نمایشگر، مدارهای مجتمع و دستگاههای نیمههادی گسسته استفاده میشود. فناوری تولید فوتورزیست پیچیده است و انواع و مشخصات محصول بسیار متنوعی دارد. تولید مدار مجتمع در صنعت الکترونیک، الزامات سختگیرانهای را برای فوتورزیست مورد استفاده اعمال میکند.
شرکت Ever Ray، تولیدکنندهای با ۲۰ سال سابقه و تخصص در تولید و توسعه رزینهای پختشونده با نور، دارای ظرفیت تولید سالانه ۲۰،۰۰۰ تن، خط تولید جامع و قابلیت سفارشیسازی محصولات است. در بخش مقاوم در برابر نور، Ever Ray رزین ۱۷۵۰۱ را به عنوان جزء اصلی دارد.
